金剛石膜是指用低壓或常壓化學(xué)氣相沉積(CVD)方法人工合成的金剛石膜。金剛石膜的制備方法有熱化學(xué)氣相沉積(TCVD)和等離子體化學(xué)氣相沉積(PCVD)兩大類(lèi)。類(lèi)金剛石膜(DLC)是一種與金剛石膜性能相似的新型薄膜材料，它具有較高的硬度，良好的熱傳導(dǎo)率，極低的摩擦系數(shù)，優(yōu)異的電絕緣性能，高的化學(xué)穩(wěn)定性及紅外透光性能。自Asienberg和Chabotv在1979年用離子束沉積法(Ion beam deposition)制得第一片DLC薄膜以來(lái)，人們對(duì)類(lèi)金剛石膜的特性、制備方法及其應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行了廣泛和深入的研究，類(lèi)金剛石膜產(chǎn)品已被廣泛應(yīng)用到機(jī)械、電子、光學(xué)和醫(yī)學(xué)等各個(gè)領(lǐng)域。
金剛石膜檢測(cè)項(xiàng)目
外觀質(zhì)量、硬度、熱傳導(dǎo)率、摩擦系數(shù)、化學(xué)穩(wěn)定性、耐高低溫定性、等；
金剛石膜檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)
GB/32559-2016 紅外類(lèi)金剛石膜
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